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詳細描述
日立高新離子研磨裝置IM4000 日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的混合模式帶有兩種研磨配置： 斷面加工：將樣品斷面研磨光滑，便于表面以下結構高分辨成像。 平面研磨：將樣品表面均勻研磨5平方毫米，從不同角度有選擇地研磨，以便突出樣品的表面特性。 日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的高通量能提高加工效率：與之前的E-3500型相比，采用新型離子槍設計，減少了橫截面研磨時間。（最大加工率：硅元素為300微米/小時--加工時間減少了66%。 日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的可拆卸樣品臺裝置：為便于樣品設置和定義研磨邊緣，可將樣品臺裝置拆卸。 特點 混合模式：兩種研磨配置 斷面加工：將樣品斷面研磨光滑，便于表面高分辨觀察 平面研磨：不同角度有選擇地，大面積，均勻地研磨5 mm的平面，以突顯樣品的表面特性 高效：提高加工效率，與之前的E-3500型相比，采用新型離子槍設計，減少了橫截面研磨時間(最大加工速度：硅材質為300 μm/h - 加工時間減少了66%) 可拆卸式樣品臺：為便于樣品設置和邊緣研磨，樣品臺設計為可拆卸型 具體情況聯系詳談
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